硼酸的保护基 Protecting Groups for Boronic Acids | 您所在的位置:网站首页 › CN是什么化学基团 › 硼酸的保护基 Protecting Groups for Boronic Acids |
有机合成百科
硼酸的保护基 Protecting Groups for Boronic Acids
2016/8/17 有机合成百科 保护基, 硼酸, 脱保护 Comment: 0 Author: LuWenjie18,431views ■
![]() 硼酸化合物一般来说对酸、水稳定,而且结晶性也比较好,是一个取用十分简便的试剂。硼酸化合物作为铃木偶联等的底物而备受关注。但是,无保护的硼酸化合物的纯化比较困难,而且容易脱水三聚化,因此定量比较繁琐,同时,有些硼酸化合物对酸或者氧化剂等不稳定,因此常常我们使用的是保护后的硼酸化合物。 常用硼酸保护基实例经常使用的保护基有以下几种。很多情况下是与二醇反应形成环状酯基来进行对硼酸的保护。随着二醇的立体位阻增大,其被水解的难度也变大,也就更稳定。与单醇成非环状酯的反应通常不作为保护的目的。 其他的如邻苯二酚酯(cat)、新戊二醇酯(neo)、不易水解的蒎酯、Biscyclohexyldiol酯、氧化条件下脱保护的MPMP酯、对三氟硼酸盐的缺点进行改良后的三醇硼酸盐等也可以作为候补。 基本文献 Duggan, P. J.; Tyndall, E. M. J. Chem. Soc. Perkin Trans. 1 2002, 1325. DOI: 10.1039/B006767I Lennox, A. J. J.; Lloyd-Jones, G. C. Isr. J. Chem. 2010, 50, 664. DOI: 10.1002/ijch.201000074 Lennox, A. J. J.; Lloyd-Jones, G. C. Chem. Soc. Rev. 2014, 43, 412. DOI: 10.1039/C3CS60197H Xu, L.; Zhang, S.; Li, P. Chem. Soc. Rev. 2015, 44, 8848. DOI: 10.1039/C5CS00338E Noguchi, H.; Hojo, K.; Suginome, M. J. Am. Chem. Soc. 2007, 129, 758. DOI: 10.1021/ja067975p Yan, J.; Jin, S.; Wang, B. Tetrahedron Lett. 2005, 46, 8503. doi:10.1016/j.tetlet.2005.10.010 Gillis, E. P.; Burke, M. D. J. Am. Chem. Soc. 2007, 129, 6716. DOI: 10.1021/ja0716204 Li, J.; Grillo, A. S; Burke, M. D. Acc. Chem. Res. 2015, 48, 2297. DOI:10.1021/acs.accounts.5b00128 Vedejs, E.; Chapman, R. W.; Fields, S. C.; Lin, S.; Schrimpf, M. R. J. Org. Chem. 1995, 60, 3020. DOI: 10.1021/jo00115a016 Darses, S.; Genet, J.-P. Chem. Rev. 2008, 108, 288. DOI: 10.1021/cr0509758 Yamamoto, Y.; Takizawa, M.; Yu, X.-Q,; Miyaura, N. Angew. Chem. Int. Ed. 2008, 47, 928. DOI:10.1002/anie.200704162 脱保护条件频哪醇酯的脱保护条件[1]: 比较稳定,一般的水解条件进行脱保护比较困难,经常需要酸性・加热条件双管齐下才能达成。生成的频哪醇再通过过碘酸钠分解,或者苯基硼酸捕捉等方法也经常被采用。另外先转换成三氟硼酸盐再转化成硼酸,或者先变成氨基酯型的硼酸盐再变成硼酸的方法比较温和,也是很常用的脱保护手法。具体请看下图所示实例。 dan基的脱保护[2]:脱保护后拖去的二胺基萘通过酸性溶液萃取就可以很容易的除去。 MIDA酯的脱保护[3]:碱性水溶液下就能简便的脱保护。该保护基对其他条件都比较稳定。 硼酸保护体的相互变换[4] 硼酸频哪醇酯在精制的时候,混有硼酸的硅胶柱可以提高分离效果[5]。 参考文献 (a, b) Coutts, S. J.; Adams, J.; Krolikowski, D.; Show, R. J. Tetrahedron Lett. 1994, 35, 5109. doi:10.1016/S0040-4039(00)77040-7 (c) Sun, J.; Perfetti, J. S.; Santos, W. L. J. Org. Chem. 2011, 76, 3571. DOI: 10.1021/jo200250y (d) Yuen, A. K. L.; Hutton ,C. A. Tetrahedron Lett. 2005, 46, 7899. doi:10.1016/j.tetlet.2005.09.101 Noguchi, H.; Hojo, K.; Suginome, M. J. Am. Chem. Soc. 2007, 129, 758. DOI: 10.1021/ja067975p Gillis, E. P.; Burke, M. D. J. Am. Chem. Soc. 2007, 129, 6716. DOI: 10.1021/ja0716204 Churches, Q. I.; Hooper, J. F.; Hutton, C. A. J. Org. Chem. 2015, 80, 5428. DOI:10.1021/acs.joc.5b00182 Hitosugi, S.; Tanimoto, D.; Nakanishi, W.; Isobe, H. Chem. Lett. 2012, 41, 972. doi:10.1246/cl.2012.972
本文版权属于 Chem-Station化学空间, 欢迎点击按钮分享,未经许可,谢绝转载! 有机三氟硼酸盐 Organotrifluoroborate Salt 有机反应后处理的一些小Tips Related post![]() ![]() ![]() ![]() ![]() ![]() ![]() ![]() No comments yet. No trackbacks yet. You must be logged in to post a comment. |
CopyRight 2018-2019 实验室设备网 版权所有 |