一种PTFE管的连续蚀刻方法与流程

背景技术：

2.ptfe(poly tetra fluoroethylene，聚四氟乙烯)，是一种以四氟乙烯作为单体聚合制得的高分子聚合物。由于ptfe的表面能极低，无法与其他材料进行粘接，因此为了拓展ptfe的使用范围，使ptfe制品能够与其他材料进行粘接，提高ptfe的表面能至关重要。3.ptfe管为一种ptfe制品，为了提高ptfe管的表面能，对ptfe管表面进行改性处理。对ptfe管表面进行改性处理主要包括物理改性和化学改性两种方式。物理改性通常是将ptfe管经过等离子体处理器处理、高能辐射处理或类似原理性质的方法进行处理。化学改性通常是将ptfe管浸泡于蚀刻液中进行蚀刻，经过一定时间的浸泡，而后取出进行清洗晾干，其中，蚀刻液包括萘钠的四氢呋喃溶液或氨钠溶液。由于物理改性后的ptfe管的表面能小于化学改性后的ptfe管的表面能，且物理改性后的ptfe管表面能会在一段时间后恢复到未处理前。因此，现有技术多采用化学改性的方式提高ptfe管的表面能。4.由于使用的蚀刻液遇水或遇空气时，蚀刻液的蚀刻效果会显著降低。因此为了尽量保障蚀刻液的活性，蚀刻液对于制品的蚀刻是在密闭的条件下进行，这使得目前ptfe管的蚀刻生产工艺基本上都是处于间歇状态或试验室阶段，同时由于化学改性过程中人为操作对于产品质量的影响程度较高，这使得ptfe蚀刻管的质量稳定性无法得到保障，ptfe蚀刻管无法连续化生产，也限制了ptfe蚀刻管的生产产量。

技术实现要素：

5.本技术提供了一种ptfe管的连续蚀刻方法，以解决人为操作对于产品质量的影响，ptfe蚀刻管无法连续化生产，限制了ptfe蚀刻管的生产产量的技术问题。6.为了解决上述技术问题，本技术实施例公开了如下技术方案：7.第一方面，本技术实施例公开了一种ptfe管的连续蚀刻方法，包括将ptfe基管的一端固定于放卷辊任意一侧的护板上，通过对放卷辊进行反转，实现对未收卷的ptfe基管进行收卷；8.将放卷辊进行正转放卷，ptfe基管的另一端通过滑轮穿过第一超声清洗槽，第一超声清洗槽盛有化学试剂；9.将ptfe基管的另一端通过滑轮再穿过处理器，处理器为等离子体处理器和电晕处理器中任意一种；10.将ptfe基管的另一端通过滑轮再穿过蚀刻槽，蚀刻槽盛有蚀刻液，其中，蚀刻槽包括夹套、氮封装置、鼓泡装置和控温装置；11.将ptfe基管的另一端通过滑轮再穿过第二超声清洗槽，第二超声清洗槽盛有去离子水；12.将ptfe基管的另一端通过滑轮再穿过清洗槽，清洗槽盛有乙酸溶液；13.ptfe基管的另一端到达收卷辊后，将收卷辊上的ptfe基管悬挂于晾干装置进行干燥，得到ptfe蚀刻管。14.可选的，化学试剂为无水乙醇或丙酮。15.可选的，蚀刻液为氨钠溶液或萘钠的四氢呋喃溶液或萘钠的醚类溶液。16.可选的，在将放卷辊进行正转放卷，ptfe基管的另一端通过滑轮穿过第一超声清洗槽，第一超声清洗槽盛有化学试剂的步骤中，包括：17.将放卷辊进行正转放卷，将ptfe基管的另一端通过滑轮穿过第一超声清洗槽，通过第一超声清洗槽盛有的化学试剂，将ptfe基管的表面油污和灰尘清除干净。18.可选的，在将ptfe基管的另一端通过滑轮再穿过处理器，处理器为等离子体处理器和电晕处理器中任意一种的步骤中，包括：19.将ptfe基管的另一端通过滑轮再穿过处理器，处理器为等离子体处理器和电晕处理器中任意一种，当处理器为等离子体处理器时，采用空气、氮气、氩气和氧气中的任意一种作为工作气体，且基于大气压对ptfe基管进行处理，其中，处理器的射频功率为0～1000w。20.可选的，在将ptfe基管的另一端通过滑轮再穿过蚀刻槽，蚀刻槽盛有蚀刻液的步骤中，包括：21.将ptfe基管的另一端通过滑轮再穿过蚀刻槽，通过蚀刻槽盛有的蚀刻液破坏ptfe基管的表面结构，同时在ptfe基管表面形成疏松层。22.可选的，在将ptfe基管的另一端通过滑轮再穿过第二超声清洗槽，第二超声清洗槽盛有去离子水的步骤中，包括：23.将ptfe基管的另一端通过滑轮再穿过第二超声清洗槽，通过第二超声清洗槽盛有的去离子水，将ptfe基管表面的蚀刻残留物和蚀刻产生的疏松层去除。24.可选的，在将ptfe基管的另一端通过滑轮再穿过清洗槽，清洗槽盛有乙酸溶液的步骤中，包括：25.将ptfe基管的另一端通过滑轮再穿过清洗槽，通过清洗槽盛有的乙酸溶液为ptfe基管的表面结构提供可吸附的羟基、羧基和羰基的活性基团。26.本技术的有益效果为：27.本技术实施例提供的一种ptfe管的连续蚀刻方法，包括将ptfe基管的一端固定于放卷辊任意一侧的护板上，通过对放卷辊进行反转，实现对未收卷的ptfe基管进行收卷；将放卷辊进行正转放卷，ptfe基管的另一端通过滑轮穿过第一超声清洗槽，第一超声清洗槽盛有化学试剂；将ptfe基管的另一端通过滑轮再穿过处理器，处理器为等离子体处理器和电晕处理器中任意一种；将ptfe基管的另一端通过滑轮再穿过蚀刻槽，蚀刻槽盛有蚀刻液，其中，蚀刻槽包括夹套、氮封装置、鼓泡装置和控温装置；将ptfe基管的另一端通过滑轮再穿过第二超声清洗槽，第二超声清洗槽盛有去离子水；将ptfe基管的另一端通过滑轮再穿过清洗槽，清洗槽盛有乙酸溶液；ptfe基管的另一端到达收卷辊后，将收卷辊上的ptfe基管悬挂于晾干装置进行干燥，得到ptfe蚀刻管。ptfe基管的另一端通过滑轮依次经过第一超声清洗槽内化学试剂、处理器、蚀刻槽内蚀刻液、第二超声清洗槽内去离子水和清洗槽内乙酸溶液的处理，并将处理后的ptfe基管悬挂于晾干装置进行干燥，进而得到ptfe蚀刻管，在减少了人为操作的同时，实现了ptfe蚀刻管的连续化生产，提高ptfe蚀刻管的产量与质量。28.应当理解的是，以上的一般描述和后文的细节描述仅是示例性和解释性的，并不能限制本技术。附图说明29.为了更清楚地说明本技术的技术方案，下面将对实施例中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，对于本领域普通技术人员而言，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。30.图1为本技术实施例提供的一种ptfe管的连续蚀刻方法的流程示意图；31.图2为本技术实施例提供的一种ptfe管的连续蚀刻方法的流程示意图。具体实施方式32.为了使本技术领域的人员更好地理解本技术中的技术方案，下面将结合本技术实施例中的附图，对本技术实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本技术一部分实施例，而不是全部实施例。基于本技术中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都应当属于本技术保护的范围。33.参见图1，本技术实施例公开了一种ptfe管的连续蚀刻方法的实施例。该方法具体包括如下步骤：34.s110：将ptfe基管的一端固定于放卷辊任意一侧的护板上，通过对放卷辊进行反转，实现对未收卷的ptfe基管进行收卷。35.s120：将放卷辊进行正转放卷，ptfe基管的另一端通过滑轮穿过第一超声清洗槽，第一超声清洗槽盛有化学试剂。36.在一些实施例中，化学试剂为无水乙醇或丙酮。37.参见图2，在一些实施例中，在将放卷辊进行正转放卷，ptfe基管的另一端通过滑轮穿过第一超声清洗槽，第一超声清洗槽盛有化学试剂的步骤中，包括：38.将放卷辊进行正转放卷，将ptfe基管的另一端通过滑轮穿过第一超声清洗槽，通过第一超声清洗槽盛有的化学试剂，将ptfe基管的表面油污和灰尘清除干净。39.s130：将ptfe基管的另一端通过滑轮再穿过处理器，处理器为等离子体处理器和电晕处理器中任意一种。40.在一些实施例中，在将ptfe基管的另一端通过滑轮再穿过处理器，处理器为等离子体处理器和电晕处理器中任意一种的步骤中，包括：41.将ptfe基管的另一端通过滑轮再穿过处理器，处理器为等离子体处理器和电晕处理器中任意一种，当处理器为等离子体处理器时，采用空气、氮气、氩气和氧气中的任意一种作为工作气体，且基于大气压对ptfe基管进行处理，其中，处理器的射频功率为0～1000w。42.s140：将ptfe基管的另一端通过滑轮再穿过蚀刻槽，蚀刻槽盛有蚀刻液，其中，蚀刻槽包括夹套、氮封装置、鼓泡装置和控温装置。43.在一些实施例中，蚀刻液为氨钠溶液或萘钠的四氢呋喃溶液或萘钠的醚类溶液。44.在一些实施例中，在将ptfe基管的另一端通过滑轮再穿过蚀刻槽，蚀刻槽盛有蚀刻液的步骤中，包括：45.将ptfe基管的另一端通过滑轮再穿过蚀刻槽，通过蚀刻槽盛有的蚀刻液破坏ptfe基管的表面结构，同时在ptfe基管表面形成疏松层。46.s150：将ptfe基管的另一端通过滑轮再穿过第二超声清洗槽，第二超声清洗槽盛有去离子水。47.在一些实施例中，在将ptfe基管的另一端通过滑轮再穿过第二超声清洗槽，第二超声清洗槽盛有去离子水的步骤中，包括：48.将ptfe基管的另一端通过滑轮再穿过第二超声清洗槽，通过第二超声清洗槽盛有的去离子水，将ptfe基管表面的蚀刻残留物和蚀刻产生的疏松层去除。49.s160：将ptfe基管的另一端通过滑轮再穿过清洗槽，清洗槽盛有乙酸溶液。50.在一些实施例中，在将ptfe基管的另一端通过滑轮再穿过清洗槽，清洗槽盛有乙酸溶液的步骤中，包括：51.将ptfe基管的另一端通过滑轮再穿过清洗槽，通过清洗槽盛有的乙酸溶液为ptfe基管的表面结构提供可吸附的羟基、羧基和羰基的活性基团。52.ptfe基管的表面结构吸附羟基、羧基和羰基的活性基团，提升了ptfe基管的粘接能力。53.s170：ptfe基管的另一端到达收卷辊后，将收卷辊上的ptfe基管悬挂于晾干装置进行干燥，得到ptfe蚀刻管。54.在一些实施例中，将收卷辊上的ptfe基管的另一端悬挂于晾干装置的过程可选为人工操作。55.在一些实施例中，通过控制装置控制放卷辊与收卷辊运行速度相同，误差不超过0.01m/s，且，使得放卷辊与收卷辊具备速度自动补偿功能，即当放卷辊与收卷辊的速度不同时，通过控制装置控制收卷辊的速度与放卷辊的速度一致。放卷辊与收卷辊运行速度范围为：0～20m/min。56.由上述实施例可见，ptfe基管的另一端通过滑轮依次经过第一超声清洗槽内化学试剂、处理器、蚀刻槽内蚀刻液、第二超声清洗槽内去离子水和清洗槽内乙酸溶液的处理，并将处理后的ptfe基管悬挂于晾干装置进行干燥，得到ptfe蚀刻管，其中，处理器为等离子体处理器和电晕处理器中任意一种，在减少了人为操作的同时，实现了ptfe蚀刻管的连续化生产，提高了ptfe蚀刻管的产量，保证了ptfe蚀刻管质量的稳定性，保障了ptfe蚀刻管的使用范围与保存时间；ptfe基管的另一端通过滑轮依次经过第一超声清洗槽内化学试剂、处理器、蚀刻槽内蚀刻液、第二超声清洗槽内去离子水和清洗槽内乙酸溶液的处理，提高了蚀刻效果，进而提高了ptfe蚀刻管的质量；本方法可操作性强，具备良好的优化前提及自动化改造条件；本方法的流程简单，控制方便，安全高效，具备工业化推广的基础。57.由于以上实施方式均是在其他方式之上引用结合进行说明，不同实施例之间均具有相同的部分，本说明书中各个实施例之间相同、相似的部分互相参见即可。在此不再详细阐述。58.需要说明的是，在本说明书中，诸如“第一”和“第二”等之类的关系术语仅仅用来将一个实体或者操作与另一个实体或操作区分开来，而不一定要求或暗示这些实体或操作之间存在任何这种实际的关系或顺序。而且，术语“包括”、“包含”或者其任何其他变体意在涵盖非排他性的包含，从而使得包括一系列要素的电路结构、物品或者设备不仅包括那些要素，而且还包括没有明确列出的其他要素，或者是还包括为这种电路结构、物品或者设备所固有的要素。在没有更多限制的情况下，有语句“包括一个……”限定的要素，并不排除在包括所述要素的电路结构、物品或者设备中还存在另外的相同要素。59.本领域技术人员在考虑说明书及实践这里发明的公开后，将容易想到本技术的其他实施方案。本技术旨在涵盖本发明的任何变型、用途或者适应性变化，这些变型、用途或者适应性变化遵循本技术的一般性原理并包括本技术未公开的本技术领域中的公知常识或惯用技术手段。说明书和实施例仅被视为示例性的，本技术的真正范围和精神由权利要求的内容指出。60.以上所述的本技术实施方式并不构成对本技术保护范围的限定。