磁控溅射离子镀,真空磁控溅射仪是理想的金属镀膜仪器和喷金仪

用微信扫码二维码

分享至好友和朋友圈

磁控溅射离子镀是专业为扫描电镜SEM应用而设计的真空磁控溅射仪,是理想的金属镀膜仪器和喷金仪.磁控溅射离子镀采用磁控电极制冷溅射镀膜和低压等离子体放射技术,为均匀溅射提供保障。磁控溅射离子镀提高了二次电子产生效率，屏蔽了SEM观察过程中样品周边的充电。磁控溅射离子镀特色磁控电极：水平装载靶材，超低放电，减少离子伤害和对样品的热损伤超低真空镀膜：电流不通过样品，样品温度浮动极小操作简单：开启EVAC按钮，就可自动溅射镀膜磁控溅射离子镀规格真空系统：蒸发速度20l/min油旋转超真空度：2Pa镀膜腔真空度：8-10Pa靶盘与样品距离：25-35mm镀膜腔尺寸：直径120mm, 深度65mm靶材电极尺寸：直径55mm靶材材料：Au-Pd, Au 或Pt -Pd ， Pt样品台：直径50mm尺寸：340x200x350mm

详情复制浏览官网网址https://www.f-lab.cn/zhiyang.html

磁控溅射离子镀是专业为扫描电镜SEM应用而设计的真空磁控溅射仪,是理想的金属镀膜仪器和喷金仪.磁控溅射离子镀采用磁控电极制冷溅射镀膜和低压等离子体放射技术,为均匀溅射提供保障。磁控溅射离子镀提高了二次电子产生效率，屏蔽了SEM观察过程中样品周边的充电。

磁控溅射离子镀_真空磁控溅射仪采用磁控电极制冷溅射镀膜和低压等离子体放射技术_辅光精密仪器可搜索lianxi

特别声明：以上内容(如有图片或视频亦包括在内)为自媒体平台“网易号”用户上传并发布，本平台仅提供信息存储服务。

Notice: The content above (including the pictures and videos if any) is uploaded and posted by a user of NetEase Hao, which is a social media platform and only provides information storage services.