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PMMA PMMA(polymethyl methacrylate)是电子束曝光工艺中常用的正性挂面光刻胶,是由单体甲基丙烯酸甲酯(methyl methacrylate, MMA)经聚合反应而成。 PMMA胶主要的特点是高分辨率、高对比度、低灵敏度。 PMMA胶种类齐全,不同的系列中包含了各种分子量(50K, 200K, 600K, 950K),各种溶剂(氯苯,乳酸乙酯,苯甲醚)以及各种固含量的PMMA胶,以满足各类电子束光刻的工艺要求。 PMMA胶可用于单层或双层电子束曝光、转移碳纳米管或石墨烯、绝缘层等多种工艺。 (注:工厂可根据用户的需求,定制所需分子量、固含量的PMMA胶。) PMMA(polymethyl methacrylate)是电子束曝光工艺中常用的正性挂面光刻胶,是由单体甲基丙烯酸甲酯(methyl methacrylate, MMA)经聚合反应而成。 PMMA胶主要的特点是高分辨率、高对比度、低灵敏度。 PMMA胶种类齐全,不同的系列中包含了各种分子量(50K, 200K, 600K, 950K),各种溶剂(氯苯,乳酸乙酯,苯甲醚)以及各种固含量的PMMA胶,以满足各类电子束光刻的工艺要求。 PMMA胶可用于单层或双层电子束曝光、转移碳纳米管或石墨烯、绝缘层等多种工艺。 (注:工厂可根据用户的需求,定制所需分子量、固含量的PMMA胶。) 类别:一种光刻胶供应商:西安齐岳生物科技有限公司用途:科研 |
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