质谱（MS）中常见离子片段

[M+1]：加质子

[M+14]：羧酸与甲醇成酯

[M+18]：加NH4

[M+19]：加水（水合）

[M+23]：加钠离子

[M+39]：加钾离子

[M+42]：加乙腈

[M+64]：加乙腈加钠离子（常见于SHIMADZU）

[2M+1]：二聚离子（两分子公用一个正电子）

[2M+23]：二聚加钠（两分子公用一个正电子）

[M+2/2]：分子中有两个叔氮，容易上两个质子

[一系列相差42的峰]：可能为石蜡油污染

[一系列相差44的峰]：可能为聚乙二醇污染

[M-16]：脱NH3

[M-17]：脱水

[M-44]：羧酸和Cbz中常见，重排后脱CO2

[M-56]：Boc中常见，脱叔丁基

[M-100]：脱Boc

[M-56]：Boc中常见，脱叔丁基

[M-H]：基本离子

[M+X]：X指溶剂或缓冲液中的阳离子

[M-H+S]：溶剂加合离子

注：（1）上述M均为精确分子量（Exact Mass），而非摩尔分子量（Molecular Weight）；（2）一个氯峰高比M+2/M=3:1；一个溴峰高比M+2/M=1:1；多个同位素的表现可以用Chemdraw精确模拟；    （3）正离子源适用于碱性化合物，含氮化合物更易粘附氢离子，在正离子源中容易出分子离子峰；负离子源适用于酸性化合物，更容易轰击掉氢正离子，如酸、酚类化合物。