测量光刻胶厚度, 测量SU |
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光刻胶
成功测量光刻胶要面对一些独特的挑战, 而 Filmetrics 自动测量系统成功地解决这些问题。 这些挑战包括避免测量光源直接照射, 拥有涵盖广泛的光刻胶折射率资料库, 以及有能力处理光刻胶随烘烤和暴露而改变的折射率。 *厚度范围取决于仪器,选项,和测量材料。 厚度范围* 应用 仪器型号 1nm - 450µm 单点 F20 0.4µm - 3mm 单点 F3-sX 5nm - 3mm 厚度测绘 F50/F60 索取应用说明测量SU-8 其它厚光刻胶的厚度有特别重要的应用。 因为旋涂 SU-8 的方法虽简便快速,但可能会导致所需厚度不太精确。 而暴露时间取决于光刻胶的厚度, 因此必须进行精确测量。 另外,由于正负光刻胶可以同时用于制造复杂的多层 MEMS 结构, 了解各层的厚度就变得极端重要。 Filmetrics 提供一系列的和测绘系统来测量 3nm 到 1mm 的单层、 多层、 以及单独的光刻胶薄膜。 所有的 Filmetrics 型号都能通过精确的光谱反射建模来测量厚度 (和折射率)。 独家的算法使得“一键”分析成为可能,通常在一秒钟内即可得到结果。 联络 Filmetrics 讨论您的测量需要。 Filmetrics 提供 免费测试 - 一般1-2 天即可得到结果。 |
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