一文解释好 耗尽型和增强型MOSFET、BJT、IGBT

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一文解释好 耗尽型和增强型MOSFET、BJT、IGBT

2024-07-11 23:13:13| 来源: 网络整理| 查看: 265

文章目录 前言一、BJT:bipolar junction transistor1 三极管的工作原理和功能2 **三极管共射极电路**3 **PN结输入特性曲线**4 **三极管的Ic-Vce 输出特性曲线,**5 总结:6 应用分析 二、 MOS: Metal Oxide Field Effect Transistor1. 增强型 和 耗尽型 MOS管 区别1.1 增强型 MOS管(常用的)1.2 耗尽型 MOS管 三 BJT 和 MOS 比较四、IGBT(Insulated Gate Bipolar Transistor 绝缘的栅极晶体管)

前言

一文解释清楚 耗尽型和增强型MOSFET N/PMOS结构及其工作原理和测试连接方法 、BJT(三极管)、IGBT之间的关系和应用

在这里插入图片描述 在这里插入图片描述 MOS管导通电阻在mΩ级别; MOS管不是电压控制所以功耗低,是因为只需要加一下压,DS通道打开就一直开通; BJT不同,需要一直有Ib电流。

一、BJT:bipolar junction transistor

MOSFET:Metal Oxide Field Effect Transistor BJT 和 MOSFET 通常被用做 放大器和电路开关;

1 三极管的工作原理和功能

bipolar junction transistor BJT 双极型结型晶体管, BJT功能:可以控制流过负载的电流大小,NPN型,线性放大区(集电结反偏,发电结正偏),增大Ib,可以使Ic增大;可以控制电路的开断,截至区(Vbe < 0.7V, 发射结反偏 )饱和区(集电结正偏,Vbc > 0.7V ) 在模拟电路中 在线性区 做信号处理电流放大,饱和区和截至区 作为开关控制。 在这里插入图片描述 在这里插入图片描述

发射区: N型高掺杂,以便发射结正偏,从发射区注入基区的电子在基区形成相当高的电子浓度梯度。 基区: 掺杂P型,很薄,发射区向基区 注射的少部分电子和空穴形成基极电流,所以需要基极向基区输送正电荷和电子结合,产生电流。 集电区: 较低浓度 但面积很大的N型掺杂, 以便基区高浓度的电子扩散进集电区形成集电极电流。

2 三极管共射极电路

给三极管发射结E 加上正向偏置电压,因为PN结(发射结)的输入曲线是指数关系,即当输入电压超过二极管的门限电压后,输入电压增加很少,输入电流就会急剧增加。 三极管基区 空穴主要由基极提供,所以双极性晶体管也叫电流型控制器件。 MOSFET 是电压控制输出电流,所以称为电压型控制器件

Ie=Ib+Ic 这就是说,在基极补充一个很小的Ib,就可以在集电极上得到一个较大的Ic,这就是所谓电流放大作用,Ic与Ib是维持一定的比例关系 Ib*β1=Ic 式中:β1–称为直流放大倍数 在这里插入图片描述

在这里插入图片描述 Rc 是对集电极电流起到限流作用(限制Ic大小)

3 PN结输入特性曲线

在这里插入图片描述

4 三极管的Ic-Vce 输出特性曲线,

截至区(cut-off-region);线性放大区(active region);饱和区(saturation region) 在这里插入图片描述

当输入电压小于门限三极管的门限电压时,Vbe



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