曹鸿涛，博士，研究员，博士生导师。本科毕业于东北大学，2004年博士毕业于中国科学院金属研究所，2004-2007年在瑞典皇家理工学院任博士后助理研究员，2007年3月-至今任职于中国科学院宁波材料技术与工程研究所纳米材料与功能器件事业部，获得“团队行动”项目支持。2007年进入浙江省“新世纪151人才工程”第三层次培养计划，2012年进入宁波市领军拔尖人才培养工程第二层次。目前主持的项目有国家自然科学基金四项、中科院国际伙伴计划、科技部国际交流项目、浙江省钱江人才计划项目、宁波市基金项目，作为骨干参与国家重点基础研究发展计划、中科院创新团队国际合作伙伴计划项目、浙江省重点科技创新团队项目和宁波市科技创新团队项目。主持工业界合作项目四项。目前主要研究领域：新型氧化物、氮氧化物半导体薄膜，氧化物半导体电子/光电子/突触器件；新型光学薄膜材料及应用。已在Adv. Mater., Nano Energy, Appl. Phys. Lett., Phys. Rev. B, ACS Appl. Mater. Interfaces等国际核心刊物上发表了90余篇SCI论文(https://orcid.org/0000-0002-4458-4621)，他引1500余次；申请和授权国家发明专利近30项，先后指导、培养博士后、博士、硕士研究生近40名。

招生方向：半导体薄膜材料与电子/光电子/仿生突触器件；​超材料/等离激元/能效利用光学薄膜材料及应用。硕博连读优先。

招生方向：功能材料与纳米器件、​新能源材料及相关技术。

电邮： [email protected] OR [email protected]；电话：0574-8668 5161；传真：0574-8668 5163；课题组网页：https://h_cao.nimte.ac.cn/

电邮： [email protected] OR [email protected]

电话：0574-8668 5161

地址：浙江省宁波市镇海区中官西路1219号