荷兰正式宣布光刻机消息!ASML,再见了

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荷兰正式宣布光刻机消息!ASML,再见了

2024-07-13 06:22:02| 来源: 网络整理| 查看: 265

根据官方媒体报道消息,6月30日,荷兰正式宣布开始实施半导体设备出口管制,将限制多款DUV高端型号光刻机设备的出货。

随即荷兰光刻机制造商阿斯麦公司回应指出,荷兰对DUV光刻机的出口限制并不是全盘性的,只是部分先进型号的设备受限,比如TWINSCAN NXT:2050i、2000i、1980Di这三款。

在此之前的旧款设备的出货并不需要申请许可,如下图所示。

根据回应的内容来看,虽然没有明说不许出口到哪个市场,但我们都知道这是在针对谁。

这一事件对于中国的芯片产业来说,其实影响也只是暂时的。中国的芯片制造商仍然可以获得部分型号的DUV光刻机,虽然可能不是最先进的产品,但仍然可以帮助他们维持正常的生产活动。

不过,随着荷兰这一措施的宣布,意味着对ASML公司可以说再见了。因为荷兰限制部分型号的DUV光刻机出货对中国芯片产业的影响是有限的,这几年在高端领域限制的影响只是以手机业务为主,其他应用最大的领域基本问题不大。

可以预见,荷兰“配合”美国的这一限制并不会对中国半导体产业的发展带来过大的冲击。反而对他们的市场营收影响会很大,美国日本荷兰他们的企业是长期坚持不下去的,毕竟中国市场已经在多个方面取得了重大突破。

第一,中国台湾省是ASML的第一大市场,中国大陆也为ASML带去了大量的营收,据媒体报道,在预交付的订单中20%来自于中国大陆厂商。

然而,随着美国对中国的技术封锁力度不断加大,中国半导体厂商已经开始减少对荷兰光刻机等设备的采购。

目前,中国厂商已经能够生产部分型号的DUV光刻机,并且这些设备的精度足以满足大多数国内企业的生产需求。

而ASML在中国市场的份额已经下滑到8%。在这种情况下,荷兰进一步限制出货只会加速中国厂商减少对ASML等设备的依赖,转而寻求国产设备或其他先进技术来替代。

第二,中国企业在芯片体产业上的自主研发和创新也在不断加强。近年来,中国在半导体产业上的投入和研发力度不断增加,取得了一系列突破性的进展。

包括自主研发的可用于28nm工艺的光刻机设备正在做技术验证,中科院下属的长春光机所近期在EUV光源系统也取得了突破,并打造出了原型样机;华为等国内企业也在堆叠技术、量子芯片、光电芯片等方面进行了积极探索和研发,等等。

而且在科技自强自立的层面上已经加大了投资力度,以支持芯片全产业发展。

这些成果表明,中国在半导体产业上的自主研发和创新已经取得了重大的进展,将为国内厂商提供更多的技术支持和选择。

第三,荷兰限制ASML的DUV光刻机出货,也将对全球半导体产业产生一定的影响。半导体产业是一个全球性的产业,需要各个国家和地区通力合作才能实现快速发展。

然而,荷兰这一举动表明了其对于美国的压力和妥协,可能会导致全球半导体产业的不稳定和不确定性增加。同时,这也将为中国企业提供更多的机会,甚至推动全球半导体产业的变革和发展。

因此综上所述,笔者认为荷兰限制ASML的DUV光刻机出货将对中国的芯片科技产业其实起到了助力的功效,更让中国市场坚定走自主化发展步伐。

相反,这一事件将为中国和其他发展中国家提供更多的机会,同时,中国在半导体产业上的自主研发和创新也在不断加强,未来将有更多的技术和产品问世,为全球半导体产业的发展注入新的动力。

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