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强大的数字算法可仿真不同半导体材料中的注入、扩散、杂质激活、刻蚀、淀积、氧化和外延生长等工艺步骤。 各个工艺步骤中的环境气体组分、温度、压力等工艺条件是典型的输入条件。最终产生的是可用于器件电学仿真的 2D 或 3D 器件结构。Synopsys 拥有四个工艺仿真工具:Sentaurus Process;Taurus TSUPREM-4;Sentaurus Lithography;和 Sentaurus Topography。 |
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