主要技术指标

1.标准模式下灵敏度

低质量数：≥200M cps/ppm；

中质量数：≥800M cps/ppm；

高质量数：≥400M cps/ppm；

2.随机背景：＜0.5cps（4.5或220）；

3.氧化物离子（CeO+/Ce+）≤2.5%，双电荷粒子（Ce++/Ce+）≤3%。（不带制冷）

4.仪器检出限

轻质量元素:≤0.1ppt；

中质量数元素：≤0.05ppt；

高质量数元素：≤0.05ppt；

5.抗干扰能力：

S(SO+)检出限：＜0.001ppb

P(PO+)检出限：＜0.005ppb

6.稳定性

短期稳定性（RSD）：≤2%（1小时，1ppb混合溶液、无内标）

长期稳定性（RSD）：≤3%（4小时，1ppb混合溶液、无内标）

7.质谱校正稳定性：≤ 0.025amu/24h

8.同位素精度：Ag107/Ag108≤ 0.08%1.4.8四极杆最短驻留时间（dwell time）10µs。

9.在一次样品测试中，可以设置8种不同分辨率，调节范围0.2-2.0amu。

主要功能及应用

用于检测样品中的痕量元素，主要用途如下：

1.       对金属、半导体、化学、生物、矿物等材料进行痕量元素。

2.       对S，Si，As，Fe等易干扰元素使用化学反应池检测，抗干扰能力强。

3.       As，Hg，Cr等元素的形态分析。

制样要求