Ultra Thick Film High Sensitivity g-line Standard Positive-tone Photoresist

超厚膜，高对比度，高感光度正型光刻胶，

适用于半导体制造及GMR磁头制造              

Ultra-thick film high contrast and high speed positive-tone standard photo resist 

for semiconductor and/or GMR head manufacturing processes.

特 征/

1) 高对比度，高感光度

2) 高附着性，对电镀工艺高耐受性               

3) 多种粘度可供选择

1) High contrast,high sensitivity

2) High tolerance in plating,high adhesion property

3) Various viscosity products

参考工艺条件/

前烘

曝光

清洗

后烘

剥离：AZ剥离液及/或氧等离子体灰化

Pre-bake

Exposure

Rinse

Post-bake

Stripping

产品型号(PRODUCT RANGE)

Product Name

 AZ P4210

  AZ P4330

  AZ P4400

  AZ P4620

   AZ P4903         

Viscosity

 49mPa

  115mPa

  160mPa

  400mPa

   1550mPa

                                                                        Pattern Profiles

                         汶昌AZ光刻胶系列