尼康造出7nm光刻机,佳能押注5nm NIL光刻机,ASML急不急? |
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用微信扫码二维码 分享至好友和朋友圈 知道光刻机故事的人都清楚,在ASML之前,日本的尼康、佳能才是老大哥。 不过在ARF光刻机时,也就是采用193nm的干式光刻机的时候,发生了分歧,日系厂商认为要继续研发使用波长更短的光源比如165nm,来提高光刻分辨率。 但是165nm波长的光线非常不稳定,研究了几年,大家都没进展。 这时台积电的林本坚站了出来,表示以前的光刻机是用空气做介质的。如果采用水为介质,利用水的折射,采用193nm的光源,在水的折射下可以等效于134nm,比165nm的光线分辨率更好,还跳过了165nm这个难搞的光源。 但尼康、佳能不信,打算一条道走到黑,继续研究165nm光源,不用水为介质。 而ASML还是小厂,就打算搏一搏,说不定单车变摩托了呢?于是ASML与台积电合作,制造以水为介质的浸润式光刻机。 这一搏就成了ASML的翻身之作,第一台浸润式光刻机ARFi制造出来,采用193nm波长,但等效于134nm,马上投入台积电的生产线上,效果非常好。 而佳能、尼康不认输,坚持不造这种以水为介质的光刻机,于是市场慢慢的全被ASML抢走了,后来ASML更是造出了EUV光刻机,独家垄断了光源等等。导致尼康、佳能一蹶不振,再也翻不了身。 后来尼康认错,也开始接受现实,制造浸润式光刻机,但佳能死都不认错,坚持不造浸润式光刻机。如今除了ASML,日本尼康也能够量产用于生产7nm及以下制程的浸润式光刻机,也就是DUV中的ARFI光刻机。 而佳能则转身研究“纳米压印光刻(NIL)”技术去了,想要颠覆ASML的EUV光刻机技术,要换道超车。 目前佳能已经造出了NIL光刻机,且已经与内存厂商铠侠合作,用于制造内存芯片,不过分辨率还不够理想,但前方已经看到光亮了,佳能表示,很快可以达到5nm的分辨率。 按照佳能的报表,2022年光刻机的营收增长11%。但表示2023年要重金投入光刻机,产能要提升两倍,同时再押注NIL光刻机技术,尽快实现5nm精度。 与ASML不一样,ASML的光刻机依赖美国的技术,但日本的光刻机,不管是尼康的、还是佳能的,基本上都是自主可控的,不需要美国的技术,不受美国的长臂管辖。 所以我们看到美国赶紧联手日本,来围堵中国半导体产业,就是怕日本卖光刻机给中国。 但不可否认的是,虽然美国已经联手日本,但日本光刻机能否卷土重来可能会成为现实,而借助中国市场,实现光刻机产业的“弯道超车”,可能也会是日本光刻机厂商们的选择之一,就看筹码够不够了。 特别声明:以上内容(如有图片或视频亦包括在内)为自媒体平台“网易号”用户上传并发布,本平台仅提供信息存储服务。 Notice: The content above (including the pictures and videos if any) is uploaded and posted by a user of NetEase Hao, which is a social media platform and only provides information storage services. /阅读下一篇/ 返回网易首页 下载网易新闻客户端 |
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