钛基镀铂的技术现状及应用

1钛基镀铂的电镀工艺 钛基电剧镀铂的工艺流程为： 预处理钛片→电净→水洗→活化→蒸馏水洗→电刷镀铂→蒸馏水洗→吹干。 1.1钛基预处理 目前，镀铂溶液种类繁多，在不少基体上都可进行电镀铂，但在钛基上镀铂比较困难。这是因为钛是一种极易钝化的金属，表面钝化膜使镀层与基体不能紧密结合，难以获得结合良好的镀层，必须进行前处理，除掉钝化膜，使钛表面生成一层活性膜—— 氢化钛膜，氢化钛与钛基体和镀层之间形成一定的金属键，从而保证钛基体与镀层结合良好 。 1.1.1侵蚀工艺 侵蚀的目的在于除去钛表面的钝化膜，一般在浓度较高的硝酸——氢氟酸体系中进行。温度为室温，时间为5 min～10 min，侵蚀液的配比：HF(40%)，50 ml/L～ 70 ml/L；HNO3(65%)，50 ml/L～ 100 ml/L；H2O2(30%)，100 ml/L～ 200 ml/L。 1.1.2活化工艺 活化的目的是在钛材表面生成活性膜 。钛材经活化处理后得到的活性膜为氢化钛(TiH2)，呈灰黑色，在基体钛、氢化钛和镀层金属中，各自形成的能带， 由于其能量相近，发生了能量重迭，形成了准金属键，从而得到结合良好的镀层。经活化处理后的钛片方可放入镀液中进行镀铂。 1.2电镀工艺 1.2.1水溶液电镀 水溶液电镀铂是目前应用较多的铂复合方法。它的溶液种类主要分酸性和碱性两大类，碱性镀铂溶液有：以二亚硝酸二氨铂为主盐即P盐镀铂溶液，以六羟基铂酸钾为主盐的强碱性镀铂溶液等。酸性镀铂溶液有氨基磺酸型镀铂溶液和硫酸盐DNS镀铂溶液等 。 (1)氨基磺酸型镀铂液的操作条件为铂(以P盐计)10～20 g/L，电流密度100～500A/m2，氨基磺酸50～100 g/L，pH