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姓名:栾晓东 性别:男 职称:副教授 学历学位:博士研究生 研究方向:功能半导体材料表面超精密加工、集成电路智能装备制造工艺研究 个人简介: 栾晓东,男,汉族,1988年11月生,中共党员,博士。2017年6月从河北工业大学电子科学与技术专业博士研究生毕业。主要研究方向为功能半导体材料表面超精密加工、集成电路智能装备制造工艺研究。在研纵向项目包括主持国家自然科学青年基金、江苏省科技厅自然科学青年基金、江苏省教育厅面上项目,参与企业技术合作,横向经费100余万;发表学术论文10余篇;作为核心成员参与国家02重大专项等国家级项目多项,入选江苏省双创博士(科技副总类)计划、连云港花果山英才计划(双创博士)、连云港市521高层次人才培养工程等人才工程。 承担主要项目: (1)国家自然科学基金,面向14nm及以下节点无磨料铜化学机械抛光新方法及关键材料的研究(62104087),2022-2024,主持 (2)江苏省自然科学基金,无磨料铜化学机械抛光液中大分子螯合剂的作用及其稳定性研究(BK20191005),2019-2022,主持 (3)连云港花果山英才,集成电路3D封装硅通孔(TSV,Through Silicon Vias)制造及其工艺(KK19048),2019-2020,主持 (4)江苏省高校自然科学基金面上项目,:无磨料铜抛光液中大分子螯合剂作用及其稳定性的研究(19KJB43001I),2019-2021,主持 近五年发表论文: (1)Xiaodong Luan, Xu Ke, Gao Chao, Zhang Zhen, Zhang Ruoyu, Liu Yuling. A High Antibacterial Weakly Alkaline Barrier Slurry with the Tunable Selectivity[J]. ECS Journal of Solid State Science and Technology,2021,10(4):044005. (2)栾晓东,徐克,张震,张若雨.基于新型抛光液研究工艺参数对片内非均匀性的影响[J].微纳电子技术, 2021, 58(9): 845-849. (3)Xiaodong Luan, Jia li Cheng, Yu ling Liu, Chenwei Wang. Effect of Complexing Agent Choices on Dishing Control Level and the Shelf Life in Copper CMP Slurry[J]. ECS Journal of Solid State Science and Technology, 2018, 7(8): 391-396. (4) Xiaodong Luan, Yuling Liu, Baoguo Zhang, Shengli Wang, Xinhuan Niu, Chenwei Wang, Juan Wang. Investigation of the barrier slurry with better defect performance and facilitating post-CMP cleaning[J]. Microelectronic Engineering, 2017, 170: 21-28. (5)Xiaodong Luan, Yuling Liu, Chenwei Wang, Xinhuan Niu, Juan Wang, Wenqian Zhang. A study on exploring the alkaline copper CMP slurry without inhibitors to achieve high planarization efficiency[J]. Microelectronic Engineering, 2017, 160: 5-11. 联系方式: 电子邮箱:[email protected] (2022年7月更新)
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