一种柔性高折射率负性OC光刻胶、光固化图案的制备方法及应用与流程

1.一种柔性高折射率负性oc光刻胶，其特征在于，按重量份数计，包括如下原料：高折射率纳米粒子5～20份，酸性光可固化单体1～10份，丙烯酸酯类光可固化单体1～20份，环氧类光可固化单体1～10份，自由基光引发剂1.5～5份，阳离子光引发剂0.01～0.1份，光敏剂为0.005～0.05份，表面活性剂0.01～0.5份，溶剂25～75份。

2.根据权利要求1所述的柔性高折射率负性oc光刻胶，其特征在于，所述高折射率纳米粒子选自zro2、tio2、al2o3、in2o3、zno或sno2中的一种或两种。

3.根据权利要求1所述的柔性高折射率负性oc光刻胶，其特征在于，所述高折射率纳米粒子是经配体修饰后的纳米粒子，且平均粒径为5～22nm，折射率为1.8～2.0。

4.根据权利要求1所述的柔性高折射率负性oc光刻胶，其特征在于，所述丙烯酸酯类光可固化单体包括单官能丙烯酸酯单体、双官能丙烯酸酯单体或多官能丙烯酸酯单体。

5.根据权利要求1所述的柔性高折射率负性oc光刻胶，其特征在于，所述环氧类光可固化单体包括环氧环己烷类光可固化阳离子单体、环氧环丁烷类光可固化阳离子单体中的至少一种。

6.根据权利要求1所述的柔性高折射率负性oc光刻胶，其特征在于，所述自由基光引发剂包括肟酯类光引发剂；所述肟酯类光引发剂包括oxe-01、oxe-02、oxe-e12或oxpi-405中的任意一种或至少两种。

7.根据权利要求1所述的柔性高折射率负性oc光刻胶，其特征在于，所述表面活性剂为氟类表面活性剂和/或硅酮类表面活性剂。

8.一种基于柔性高折射率负性oc光刻胶形成的光固化图案的制备方法，其特征在于，包括如下步骤：

9.根据权利要求8所述的基于柔性高折射率负性oc光刻胶形成光固化图案的制备方法，其特征在于，所述步骤3)中显影完成后，先利用水洗涤图案、氮气吹干，然后在70～100℃的温度下后烘烤10～100min，从而得到所需的固化图案。

10.一种基于负性高折射率oc光刻胶组合物形成光固化图案的应用，其特征在于，所述光固化图案利用权利要求8或9所述的制备方法制得，能够应用于微透镜阵列、阵列平坦化膜图案、保护膜图案或绝缘膜图案。

技术研发人员：雷霆,何鑫受保护的技术使用者：西安思摩威新材料有限公司技术研发日：技术公布日：2024/1/15