RTX 40显卡的“4N”工艺并非4nm，而是定制台积电5nm

在之前的传闻中，RTX 40系列将采用台积电4nm制造工艺，但实际上NVIDIA官方标注为“4N”工艺，和台积电的“N4”好相反，难道是定制版的台积电4nm？据悉4N工艺确为NVIDIA与台积电定制，但实际上还是5nm，因此正确的说法应是台积电4N 5nm工艺，当然也有厂商误写作4nm。

尽管NVIDIA CEO黄仁勋表示凭借新的架构和工艺，RTX 40系列的能效是RTX 30系列的两倍，但台积电的4nm、5nm工艺似乎并无本质区别，前者主要是提高了晶体管集成度。据悉Ada Lovelace架构的大核心AD102集成了763亿个晶体管，核心面积608.4平方毫米，密度为1.255亿个/平方毫米，内置18176个CUDA核心、142个第三代光追核心、568个第四代张量核心。

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